未来情報産業研究館（寄付建物）

超大規模半導体集積回路の設計・製造・検査を融合一体的に研究開発する施設である。既設クリーンルームの「塵がなく温度を制御した施設」という思想にとどまらず、半導体の信頼性を格段に向上させる為、「バラツキ、変動、揺らぎの一切存在しない施設」を構築することを目指した。 　建物の構成は地下１階・１階・２階が１層目、３階・４階が２層目で、クリーンルームが２層重なっている。 　また、クリーンルームに窓を設け、一般の方も、内部の研究の様子を垣間見れるような仕掛けとしている。
	竣工　　平成１３年１１月 　　　　　　　　構造　　鉄骨鉄筋コンクリート造 　　　　　　　　　　　　　地上６階地下１階 　　　　　　　　規模　　７，６９０�u

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